拓荆科技股份有限公司-2010年在辽宁成立的公司

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      拓荆科技股份有限公司（以下简称：拓荆科技），2010年4月成立，位于辽宁省沈阳市浑南区水家900号，是一家从事半导体专用设备研发、生产、销售与技术服务的国家高新技术企业，法定代表人为刘静。

      拓荆科技主要产品包括PECVD（等离子体增强化学气相沉积）、ALD（原子层沉积）、SACVD（次常压化学气相沉积）、HDPCVD（高密度等离子体增强化学气相沉积）等，应用于集成电路晶圆制造等高端技术领域。2022年4月20日，拓荆科技在上海证券交易所科创板上市。2023年12月，拓荆科技被认定为国家企业技术中心。截至2024年11月15日，公司共有员工1253人。公司在沈阳、上海、海宁均有研发及生产基地，工厂仍在不断扩建中。

      2022年，拓荆科技获得全国五一劳动奖状，公司在2023年新经济企业TOP500榜单中排名第156位。